专利名称：一种防污染型高温高压动态现场原位光谱测试用反应器

专利类型：发明专利 ZL 201610645818.8

专利授予单位：中华人民共和国国家知识产权局

专利权人：华东理工大学

发明人：韩一帆;徐晶;张俊;张征湃;尚欢欢

授权公告日：2018.10.26

专利简介：本发明提供一种防污染型高温高压动态现场原位光谱测试用反应器，其特征为：于反应器盖下表面设置防污系统。防污系统包括上密封槽、密封储槽A、密封储槽B和防污片，防污片闭合后与上密封槽、高透光学窗片形成一密闭空间，通过齿轮组和内传动杆控制防污片的开启与闭合；在非光谱信号采集阶段，通过防污片阻挡液固相物质对光学窗片的污染，在实验的光谱信号采集阶段移开防污片，保证分析光束透过纯净的光学窗片且不发生光路偏移，减少光能量衰减，增强反馈信号强度。本发明规避了同类微型反应器在三相及多相反应中，物质污染光学窗片、影响光谱实验信号的问题。保证了在苛刻条件下以高时空分辨度进行高温高压现场原位光谱测试的要求。